-
日期: 2025-04-11 | 來源: 中關村在線 | 有0人參與評論 | 專欄: 叁星 | 字體: 小 中 大
叁星對1nm工藝寄予厚望，希望借此在高端芯片市場取得領先地位。據媒體報道，叁星電子已經成立1nm工藝研發團隊，開發其下壹代1nm工藝節點，目標是在2029年實現量產。
報道稱，叁星電子半導體研究所已經開始著手研發1nm工藝，部分曾參與2nm工藝研發的人員被抽調至該團隊。1nm工藝被叁星稱為“夢想中的半導體工藝”，其研發需要引入全新的技術概念和高數值孔徑極紫外設備，目前叁星尚未明確是否已訂購這些先進設備。
叁星的這壹計劃是為了在與台積電的競爭中實現“技術翻盤”。台積電在先進制程方面壹直處於領先地位，其2nm工藝預計將於2026年下半年量產，1nm工藝也在開發中。相比之下，叁星的2nm工藝良率仍低於台積電，叁星的1.4nm工藝預計將於2027年量產。
- 新聞來源於其它媒體，內容不代表本站立場！
-
原文鏈接
原文鏈接:
目前還沒有人發表評論, 大家都在期待您的高見