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日期: 2025-12-11 | 來源: 火星宏觀 | 有0人參與評論 | 字體: 小 中 大
日本不僅獲得31個諾貝爾獎，其76項半導體材料壟斷全球市場。大日本印刷突破1.4nm模板技術，支持佳能納米壓印裝置，耗電僅EUV光刻機1/10，成本大幅降低，適用於AI、自動駕駛芯片。台積電、叁星計劃量產，中國半導體落後，可趁禁售窗口合作引入，實現先進制程彎道超車，補齊7nm短板。
在兩個月前的2025年度諾貝爾獎自然科學獎項頒布新聞發布會上，日本又增添了兩名諾貝爾獎得主：壹個是榮獲生理學/醫學獎的大阪大學教授阪口志文，另壹個是榮獲化學獎的京都大學教授北川進。
雖然壹年獲得兩個諾貝爾科學獎已經令囊中羞澀的我們羨慕不已，但更令人驚歎的是，截至2025年，日本獲得的諾貝爾獎中，2000年後的25年裡，日本獲得了22個諾貝爾科學獎，成為獲得諾獎最多的非歐美國家。
扎實的科學研究實力，不僅讓日本獲得了31個諾貝爾獎，還使其成為全球最先進的半導體關鍵材料技術和產品供應國。日本在EUV光刻膠制備技術、300mm大硅片制造技術、半導體塗膠顯影設備技術等76項半導體材料和設備領域構築了全球最嚴密的技術壁壘，擁有市場份額超過70%的絕對壟斷地位。
日本在半導體材料和設備領域的技術積累，推動日企砥礪前行，不斷實現突破與超越。最近，日企又在先進半導體核心構件方面取得了重大突破。
12月10日，《日經亞洲》報道稱，大日本印刷（DNP）開發出了能以拾分之壹的耗電量生產先進半導體的技術。將面向佳能生產的新方式制造裝置，於2027年量產可支持新壹代1.4納米（1納米為拾億分之壹米）產品的核心構件。該技術的出現，讓人工智能（AI）半導體的制造成本有大幅降低的可能性。
目前，要量產最先進的半導體，需要使用全球只有荷蘭阿斯麥控股（ASML Holdings）生產的極紫外（EUV）光刻機。在晶圓（基板）上繪制電路的“光刻工序”占半導體總制造成本的3至5成。電路越精細，光刻次數就越多，耗電量也隨之增加。壹台EUV光刻機的價格為300億日元左右，給半導體廠商帶來沉重的投資負擔。
而佳能的“納米壓印（Nanoimprint ）”制造裝置，采用類似蓋印章的方式在晶圓上制作電路。大日本印刷開發出了相當於精細印章的電路原版“模板（template）” ，最高可用於1.4納米制程。此前該技術無法支持2納米等先進半導體的制造。
制作模板時，需要使用光刻技術。此次大日本印刷重新篩選了材料並調整設置條件，還采用了可使半導體電路密度翻倍的“雙重圖形化（Double Patterning）”技術。
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