-
日期: 2026-01-09 | 來源: 每日經濟新聞 | 有0人參與評論 | 字體: 小 中 大
據媒體此前報道，2004年，時任上海市經委副主任、曾推動中芯國際落地上海的江上舟，正為國產等離子刻蝕機的市場空白發愁。那壹年的上海世界半導體設備展上，尹志堯以應用材料公司副總裁、刻蝕產品事業部總經理的身份參展，與江上舟不期而遇。彼時江上舟已罹患肺癌，仍系心國內刻蝕機的自主研發，多番動員尹志堯回國創業。對尹志堯高齡回國的躊躇，江上舟豪言：“我是個癌症病人，只剩下半條命，哪怕豁出這半條命，也想為國家造出光刻機、等離子刻蝕機，我們壹起幹吧！”這壹席話，堅定了尹志堯的創業決心。隨後經尹志堯游說，麥仕義等拾余位硅谷人才壹同歸國，決意“瞄准”中國芯片刻蝕設備領域的空白。
3年後，從零起步的中微公司研發出了首台刻蝕設備、薄膜設備，並成功運往國內客戶，為產業需求提供優質高效和低成本的解決方案。
據上海證券報報道，近拾年間，尹志堯帶領團隊持續突破技術壁壘，半導體設備領域的全國首台套捷報頻傳：2015年，率先提出“皮米級”加工精度概念，開發出世界先進水平的CCP和ICP等離子體刻蝕設備；2018年，自主知識產權刻蝕機進入客戶5納米產線；2010年—2025年，推動開發了MOCVD\LPCVD\ALD\EPI\PEVCD壹系列國際領先的薄膜設備；2025年，ICP雙反應台刻蝕機精度達0.1nm（納米），技術達到全球先進水平。
中微公司最新披露的叁季報顯示，2025年前叁季度，公司保持強勁發展勢頭，實現營業收入80.63億元，同比增長46.40%；實現歸屬於上市公司股東淨利潤12.11億元，同比增長32.66%。
中微公司表示，根據規劃，未來伍到拾年，其對集成電路關鍵設備領域的覆蓋度將提升至60%，將攜手行業上下游的合作伙伴，實現高速、穩定、健康和安全的高質量發展，力爭盡早在規模上和競爭力上成為國際壹流的半導體設備公司。- 新聞來源於其它媒體，內容不代表本站立場！
-
原文鏈接
原文鏈接:
目前還沒有人發表評論, 大家都在期待您的高見