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日期: 2025-08-13 | 來源: HK01 | 有0人參與評論 | 專欄: 人民幣 | 字體: 小 中 大
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中國半導體設備龍頭企業屹唐股份指控美國應用材料公司非法竊取其等離子體源及晶圓表面處理核心技術，並在中國境內以專利申請方式揭露，遂向北京知識產權法院提告，求償9999萬元（人民幣(专题)，下同）。桉件已立桉，尚未開庭審理。
8月13日，屹唐股份公告稱，公司因認為應用材料公司非法獲取並使用了公司的等離子體源及晶圓表面處理相關的核心技術秘密，還在中國境內以申請專利的方式披露了該技術秘密，且將該專利申請權據為己有，因此向北京知識產權法院提起訴訟，訴訟金額為9999萬元。
有分析指，中美企業在半導體技術與知識產權領域的摩擦加深；若屹唐勝訴，除可獲賠償，亦可能在專利歸屬上取得戰略優勢，進壹步保護其在先技術地位。
2025年7月，屹唐股份在上交所科創板上市，是中國唯壹同時掌握等離子體與晶圓熱處理國際領先技術的設備企業，應用材料則為全球半導體設備巨頭，專利數逾2.2萬項。
值得關注的是，北京屹唐半導體於2016年曾收購美國加州(专题)晶圓制程設備設計與制造商 Mattson Technology。2022年，應用材料曾起訴Mattson Technology，指控其聘用前員工意圖竊取商業機密。
2023年，Mattson Technology則對應用材料提起反訴，指控對方竊取商業機密。此次的新訴訟則由北京屹唐半導體向應用材料提告，是雙方長期的知識產權糾紛的延續。- 新聞來源於其它媒體，內容不代表本站立場！
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