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日期: 2025-12-19 | 来源: 德国之声 | 有0人参与评论 | 字体: 小 中 大
德语媒体：中国芯片制造技术取得重大突破？
对于中国已成功造出一台极紫外光刻设备原型机的报道，…— DW 中文- 德国之声 (@dw_chinese) December 19, 2025
对于中国工程师已成功建造出一台极紫外光刻（EUV）设备原型机的媒体报道， 《新苏黎世报》评论到，如果消息属实，不仅意味着中国比预期更早地突破了高端芯片制造设备的瓶颈，也将对全球科技竞争产生重大影响。《法兰克福汇报》则评论称，欧洲人发明的EUV技术已经成了中美博弈的核心，也将决定欧洲人在未来全球科技版图中的地位。
中国山东一家芯片公司（资料图）
《新苏黎世报》发表分析文章写道，高端芯片是人工智能以及尖端军事技术的基础，因此一直以来都是中美博弈中的关键战场。多年来，华盛顿通过出口管制和制裁手段，试图切断中国获取高端芯片的途径。但与此同时，中国也加快了芯片技术的自主研发，希望摆脱在这一领域对西方的高度依赖。这篇题为《中国可能在核心技术领域取得了突破》的分析文章写道：
“中国明显落后于西方的技术领域已经所剩无几，而芯片制造设备就是其中之一。在西方，当前最先进的人工智能芯片都是通过极紫外光刻机（EUV）技术生产的。这是一种使用超短波长光线的光刻技术，能够制造出极其细微的结构，从而使高性能芯片的制造成为可能。在全球范围内，只有荷兰的阿斯麦（ASML）能够生产出这样的高端芯片制造设备。也正因为如此，华盛顿从一开始就一直在阻挠北京获得阿斯麦的高端设备。
“只有荷兰的阿斯麦（ASML）能够生产出高端芯片制造设备”图像来源: Ruffer/Caro/picture alliance
迄今为止，中国公司虽然也能利用相对落后的技术生产出用于人工智能的芯片，但成本相对更高。而西方专家普遍认为，只要中国工程师无法自行研发出EUV技术，中国就无法弥补在这一领域同西方的差距，甚至这一差距可能会越来越大。
然而，路透社的一则调查新闻则显示，中国在EUV技术研发方面的进展，显然已经远远超出西方专家的预期。据称，今年年初，中国一个工程师团队已经在深圳的一个厂区内成功制造出了一台EUV设备原型机。 ”
"中国的曼哈顿计划”
《新苏黎世报》援引路透社的消息报道称，该EUV项目被内部人士称为“中国的曼哈顿计划”，足以显示该项目的保密程度之高以及投入之巨大。而研发速度之所以如此惊人，则要归功于一些高薪聘请来的前阿斯麦工程师：
“中国是否以及何时能将自主研发的EUV技术推向市场，目前尚无法断言。与体量相当于一辆长途巴士的阿斯麦设备相比，深圳原型机的体积要大得多，需要占据整整一座厂房。此外，还有一些关键部件，如高精度镜片也还未能达到质量要求。- 新闻来源于其它媒体，内容不代表本站立场！
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